汽化相对温和的性质会生成松散或多孔的镀膜。这些松散的镀膜存在吸水问题，这会改变层的有效折射率并导致性能下降。蒸发沉积过程中不能控制蒸发，精密光学电镀加工，因此不能像使用离子束溅射等其他技术那样控制层厚度。不过，这些松散的镀膜的优点是它们相对来说没有压力。使用离子束辅助沉积（ibad 或 iad）可以增强蒸发镀膜，离子束直接作用于基片表面，增加源材料与表面的粘附能量，并生成更致密、更坚固的镀膜。
典型的光学镀膜材料是铝镀膜玻璃。由于银会反射更多的光，像银这样更昂贵的涂层将导致更昂贵的镜子的制造，精密光学电镀供应，从而具有更高的。光学涂层用于折射光线，而不是反射光线。这就是所谓的电介质涂层，它不仅用于消费者，精密光学电镀批发商，也用于科学设备，望牛墩精密光学电镀，如望远镜和激光。他们设计了这样的产品，如无反射的计算机屏幕、航天飞机的窗户和钱德拉x射线望远镜的镜子。
与蒸发沉积不同，原子层沉积 (ald) 的源材料不需要从固体中蒸发，而是直接以气体的形式提供。尽管使用了气体，但在真空室中仍然经常使用高温。在 ald 过程中，前体以非重叠脉冲的形式传递，每个脉冲都具有自限性。该过程的化学设计使得只有一个单一的层可以依附每个脉冲，表面的几何形状不是---因素。由此可对层厚度和设计实现非凡的控制。
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