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真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（pvd）技术和化学气相堆积（cvd）技术。

物理气相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，浙江手机壳光学镀膜，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，手机壳光学镀膜加工厂家，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。

pvd镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。如pvd镀膜前处理不净、清洗---、电解液成分失调及杂质污染、生产环境---等。pvd镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。

pvd镀膜加工在影响产品的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中，人是较为重要的。pvd镀膜故障的发生都与操作工技能和工作责任心有关。pvd镀膜生产管理人员对操作工指导和---不力，这些在pvd镀膜企业较普遍存在的状况，pvd镀膜使得故障在所难免。要减少pvd镀膜生产故障，提高pvd镀膜从业人员的技能和工作责任心是十分重要的。